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VTC-200PV真空旋转涂膜机 操作视频
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VTC-200PV真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。本机可以对涂膜机腔室进行抽真空,使样品在完全真空的状态下进行涂膜,适用于在空气中易氧化变质的薄膜材料的使用,对腔体抽真空时采用样品卡盘固定样品。VTC-200PV真空旋转涂膜机不对腔体抽真空工作时利用真空盘吸附的方式将样品固定在样品吸盘上,该设备可储存12组程序,每组程序包含6个运行阶段。不同运行阶段设备转数不同,使设备缓慢提升速度至极限速度,有利于薄膜材料在样品表面均匀成膜,且不会过多浪费,节约材料。VTC-200PV真空旋转涂膜机具有操作简单、清理方便,体积小巧等优点,主要应用于各大专院校、科研院所的实验室中进行薄膜的生成过程。
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