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三靶磁控溅射镀膜仪
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三靶磁控溅射镀膜仪为我公司研发的实验室专用镀膜仪,设备可选配直流电源,和射频电源,功率从500W-1000W不等,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜等。磁控溅射相较于普通的等离子溅射拥有能量高速度快的优点,镀膜速率高,样品温升低,是典型的高速低温溅射。磁控靶配有水冷夹层,避免热量在靶面聚集,使磁控镀膜能长时间稳定工作。设备经过紧凑化设计,实现了体积与性能的平衡。整机均采用触控屏控制,内置一键式镀膜程序,是一款实验室制备薄膜的理想设备。
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