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铜箔上化学气相沉积(CVD)生长的石墨烯的背面刻蚀和转移方法
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https://www.youtube.com/watch?v=6M8mg2nDkL4&t=139s 介绍铜箔上CVD生长的石墨烯的背面刻蚀和转移方法。 大致过程是用HNO3刻蚀铜箔背面的石墨烯3min左右,转移到去离子水中清洗,然后转移到Fe(NO3)3或FeCl3腐蚀铜箔2小时左右(看铜箔的厚度),然后,再转移到去离子水中清洗几次,最后在用衬底在去离子水中捞取石墨烯即可。 转移用视频中的表面皿和载玻片都行。
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