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钨靶材的在半导体领域的纯度和密度要求
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迪纳科金属靶材Cu靶材纯度可达99.998%,Cu靶材属于金属靶材,靶材纯度:99.99%,成分比例:支持按需定制 ,相对密度:99.5%,生产工艺:熔炼挤压,
钨靶材的应用领域
迪纳科金属靶材Ti靶材纯度可达99.9%,Ti靶材属于金属靶材,靶材纯度:99.7%,成分比例:支持按需定制 ,相对密度:99.5%,生产工艺:熔炼挤压,靶材形
迪纳科AZO靶材纯度可达99.99%,AZO靶材属于氧化锌基靶材,靶材纯度:99.99,成分比例:(99.5-98):(0.5-2),相对密度:99,生产工艺:
钨靶材性能特点
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迪纳科ITO靶材纯度可达99.99%
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