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表面分析技术XPS-AES-SIMS 样品制备-2
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材料表征技术-6-表面成分分析技术（AES, XPS, SIMS,SEM-EDS)对比
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TOF-SIMS-1- 基本原理和主要技术能力
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表面分析技术XPS-AES-SIMS 样品尺寸和包装要求-1
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XPS图谱分析之-O1s 图谱分析（有机氧，晶格氧和空位氧等）
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XPS图谱分析-La3d [La-La2O3-La2(CO3)3-La(OH)3]
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XPS分峰拟合原则-5-双峰拟合-注意自旋轨道分裂峰
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XPS分峰拟合原则-1-谱峰平滑处理
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3-XPS样品准备说明
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TOF-SIMS TOF-DR软件-17-如何回溯3D重构离子分布图
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1a.-XPS基本原理
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XPS数据转换和打开之三-Excel 数据转换成VMS格式
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XPS数据转换和打开之一-CASA软件进行数据转换
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TOF-SIMS TOF-DR软件操作-1-谱峰打开保存和校正
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如何学习XPS技术-注意合集的逻辑顺序
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XPS数据转换和打开之二-AVANTAGE直接打开VMS文件
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2a-XPS的主要技术能力和数据类型
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材料表征常用技术-1-总述
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1b.XPS系统和主要应用
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XPS图谱分析之-Si2p 图谱分析（硅、硅化物、氧化硅、有机硅等）
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XPS图谱分析之-Fe2p 金属和氧化态图谱分析
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XPS图谱分析之-Ni2p 金属和氧化态图谱分析
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XPS分峰拟合原则-3-半峰宽FWHM设置原则
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XPS测试-分析-文章中常见的错误-1
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XPS图谱分析之-P2p 图谱分析（磷、磷化物、磷酸盐、PF6）
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TOF-SIMS TOF-DR软件操作-2-质谱质量范围和强度调整
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TEM构造和原理
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XPS是如何进行半定量分析的
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TOF-SIMS常见问题回复-6-TOF-SIMS定量-A：谱峰强度是否代表含量
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XPS测试-分析-文章中常见的错误-8-能量校准和荷电校正
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XPS图谱分析之-Ce3d 图谱分析（金属、氧化物、氟化物等)
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XPS图谱分析之-Ba3d图谱分析（金属态和氧化态）
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XPS数据解析参考资源-1-两本XPS数据手册
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TOF-SIMS分析源（Ga和Bi)和溅射离子源(O-Cs-C60-GCIB)的选择-3
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XPS图谱分析之-Pd3d 图谱分析（金属和氧化态）
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XPS图谱分析之-Ru3d 与 C1s 重合谱峰分析 （金属和氧化态）
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XPS分峰拟合原则-4-G-L对称峰型和Asymmetric 峰型拟合
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XPS图谱分析之-V2p 化学态归属和精细谱分析方法
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D-SIMS和TOF-SIMS的区别-1
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XPS分峰拟合原则-2-谱峰背底扣除
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XPS图谱分析之-Pt4f 图谱分析（金属和氧化态）