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光敏印章的特性分析
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光敏印章的基本原理是利用特殊材料的感光性,在印章表面不需要印迹的地方形成一层不能渗透的膜,从而达到印章的效果。因此,使用光敏印章制作印章速度快,只需要10秒钟的曝光,印迹清晰,文字的精密度高,使用方便。
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