颠覆半导体行业！中国科学家研发出采用突破性2D材料的12英寸晶圆
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中国半导体材料研究大突破，已能生产12英寸晶圆 芯闻快报（第二十五期）
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中科院突破的五纳米激光光刻技术，令人感到非常开心和兴奋。然
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介文汲：美国曾预言中国突破高级芯片需要7年，没想3年就突破了！
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出口限制今日生效，ASML：年底前都可以出货受限芯片制造设备
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CCTV说高性能计算的国家级应用，原来2年前，就是趋势的开始（中）
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能约束1兆安电流运行，人造太阳到了哪一步？
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荷兰允许阿斯麦向华出口高端光刻机，网友：还记着当年的盾构机吗
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600亿27台光刻机！ASML正式宣布，外媒：吕特开始“摆烂”了！
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