吉致电子蓝宝石衬底抛光工艺解读#研磨抛光 #精密加工 #蓝宝石衬底抛光液 #半导体抛光液 #晶圆抛光液
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半导体衬底和外延的区别
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半导体行业中CMP抛光工作原理
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吉致电子碳化硅单晶衬底研磨液具有较高的强度，韧性和自锐性，实现高的表面质量，提高材料去除率。#研磨抛光 #碳化硅抛光液 #SIC衬底抛光液 #半导体抛光液
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吉致电子化学机械平坦化工艺应用于各种集成电路以及半导体行业等减薄与平坦化加工#研磨抛光 #精密加工 #半导体抛光液 #集成电路抛光液 #硅片抛光液
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提高CMP抛光液在半导体行业化学机械抛光中的作用#研磨抛光 #半导体抛光液 #碳化硅抛光液 #硅晶圆抛光液 #SIC衬底抛光液
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吉致电子—氮化镓CMP抛光的重要性#精密加工 #半导体抛光液 #氮化镓抛光液 #蓝宝石抛光液 #芯片抛光液
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吉致电子磷化铟的减薄与抛光#研磨抛光 #磷化铟抛光液 #半导体抛光液 #硅晶圆抛光液 #碳化硅抛光液
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