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世界500强Intel安装最先进EUV光刻机 已进行中文技术翻译
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随着半导体不断发展,单位面积内晶体管数量不断增加,最先进的光刻工艺已进入10nm以下制程。作为10nm以下制程的关键设备,ASML公司的EUV光刻机,集结了本世纪最先进的技术。本视频展示了EUV光刻机的首次安装,已经进行中文技术翻译。更多内容,请移步同名公众号|Thomas芯片小屋。
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