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京东 11.11 红包
IC制作核心工艺-光刻
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通过掩模曝光后,曝光部分的光刻胶会发生化学反应,大的光刻胶分子分解成较小的分子。下一步显影,将硅片浸入有机溶剂中以除去已曝光光刻胶区域,溶剂仅溶解在曝光过程中产生的小分子,最后使用两种方法将图案转移到硅片上。一种方法是蚀刻,将硅片从蚀刻后未涂覆光刻胶的图案区域化学去除,去除剩余的光刻胶以揭示蚀刻到硅片表面的图案。另一种方法是剥离,其中在整个硅片上沉积金属层,然后去除光刻胶,使金属与之成为wei一的区域。金属涂层是所需的图案,其中在显影步骤中先前已除去了光刻胶。
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