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佳能正式将纳米压印半导体制造技术(NIL)设备商业化
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佳能最新发布了一种新的纳米压印半导体制造设备,该设备能够执行电路图案转移,这是制造最先进半导体所需的关键工具。虽然佳能主要以相机和镜头而闻名,但它也确实涉足了很多成像以外的其他行业,包括半导体制造。 如CNBC报道,随着这台被称为 FPA-1200NZ2C新机器的加入,使佳能可以挑战极紫外(EUV)光刻的市场领导者(荷兰公司ASML)。这款新的佳能机器能够制造相当于5纳米工艺的半导体,并且可以小至2纳米。
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