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PVD多种沉积方式对比
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PVD(Physical Vapor Deposition),在真空条件下,采用物理方法,使材料源表面气化成原子、分子或离子,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。 PVD主要分为蒸镀、溅射和离子镀三大类。
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