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国仪FIB实操展示——透射电镜样品制备
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聚焦离子束电子束双束显微镜可用于大规模集成电路的缺陷诊断、修补、离子注入、原位加工、掩膜版修理、刻蚀,集成电路设计修改,量子芯片器件制作,无掩膜加工,纳米结构制作,复杂纳米图形加工,材料的三维成像与分析、超灵敏表面分析、表面改性,以及透射电镜样品制备等方面。应用需求广泛,不可或缺。 目前,国仪量子推出的聚焦离子束电子束双束显微镜DB500拥有自主可控的场发射电子镜筒和“承影”离子镜筒,是一款优雅全能的纳米分析和制样工具。高压隧道技术(SuperTunnel)、低像差无漏磁物镜设计,低电压高分辨率成像,保证纳米分析能力。“承影”离子镜筒采用液态镓离子源,拥有高稳定、高质量的离子束流,保证纳米加工能力。集成式的纳米机械手、气体注入器,拥有24个扩展口,配置全面,自主可控,扩展性强,为您打造全能纳米分析和加工中心。 为向用户展示DB500的卓越性能,国仪量子电镜团队特别策划了《国仪FIB秀》专题节目,将通过视频形式,呈现这台尖端设备在材料科学、半导体工业、生物医学等领域的广泛应用。观众将了解DB500的工作原理,欣赏其拍摄的惊艳微观图像,并深入探索这一技术对科研和工业发展的重大意义。 本期节目,我们将为您展示DB500如何高效、精确地制备透射电子显微镜(TEM)样品。 从视频中可以看到,DB500制备TEM样品,操作简单、前处理步骤少,学习成本低,测试高效;可实现定点微纳尺度精准切割,尺寸可控,厚度均匀,适用多种显微学和显微谱学的分析;并且可实现切割、成像、分析一体化。
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