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佳能发布新型光刻机!有望实现2nm!ASML彻底慌了!
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据佳能介绍,传统的光刻设备通过将电路图案投射到涂有抗蚀剂的晶圆上,而佳能此新产品通过在晶圆上的抗蚀剂上压印有电路图案的掩模来实现这一点,就像邮票一样。 据了解,佳能的纳米压印光刻(Nano-Imprint Lithography,NIL)技术可实现最小线宽14nm的图案化,相当于生产目前最先进的逻辑半导体所需的5nm节点。此外,随着掩模技术的进一步改进,NIL有望实现最小线宽为10nm的电路图案,相当于2nm节点。
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