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掺杂设备-扩散和离子注入
手搓光刻机,实现接近1微米的精度
刻蚀设备——干法刻蚀设备
国产分辨率65nm光刻机的真实水平【中国科学院雷宇】
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减薄抛光设备
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六台光刻机!中企正式宣布,外媒:ASML果然加速了!
光刻机“巨无霸”业绩暴跌
刻蚀设备——湿法腐蚀和化学释放
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半导体工厂与安全
中国新型4nm芯片震惊美国,法国网友:恭喜美国唤醒了中国龙
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