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1200度 迷你CVD 管式炉
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本套CVD系统专为石墨烯生产设计,采用1200℃迷你管式炉,配有高精度质量流量计以及薄膜真空规。相比于常规的皮拉尼电阻规,薄膜规的读数精确,不受气体种类影响,十分适合真空镀膜工艺。同时设备配有可燃气体检测装置,联动出气口电磁阀,一旦出现泄漏电磁阀即可自行关闭保证安全。 该套设备功能全面占地面积较小,十分适合实验室制备CVD
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