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28nm光刻机的水平,荷蘭禁售ASML先進DUV光刻機,阻中國發展10nm以下製程,SSA800能否對標禁售型號?
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youtube.com/watch?v=t9KMuJWI49o 每一集視頻都是一個題目的探討,也是一些相關技術的研究,問題先生花了大量時間搜集資料,確認對照有關數據,進行項目分析與立論,給大家一個比較全面和客觀的認識。 問題先生在半導體行業20多年,有著研發生產設備的實際經驗,所工作的設備在1989和1991兩度拿到總督工業獎。問題先生走遍亞洲各大半導體工廠,對生產程序有深入的認識,尤其是芯片封裝。而技術方面,基本上自動系統的所有科技都有一定掌握。 非常歡迎各位提出意見,分享想法及資料、知識,共同研究科學科技。更希望大家作出少少的贊助,也可以看廣告30秒以上。 发布日期为2023年8月11日 美國要阻中國發展10nm以下的先進製程,而DUV要做到10nm以下,關鍵不在於光刻,而在於雙工件台的精度。2020年光源功率只達到45W,等於ASML的NXT1460,到了2022年高精度雙工件台成功了,光源功率亦達到60W,SSA800真的成功了。 这个是问题先生评论区原话 遥遥领先
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