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单靶磁控光纤绕丝溅射镀膜仪
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单靶磁控光纤绕丝溅射镀膜仪是一种常见的物理气相沉积(PVD)技术,用于制备各种薄膜材料,这种溅射系统非常适合制备高质量、高纯度、均匀性好的金属和合金薄膜,广泛应用于微电子、光学、电池、太阳能电池等领域。 1. 光学薄膜制备:用于制作高反射、抗反射等光学薄膜。2. 电子器件制备:用于制备半导体器件、导电膜等。 3. 光学器件制备:用于制备太阳能电池、液晶显示器、LED等器件。4. 防护涂层制备:用于制备具有防水、防油、防紫外线、防磨损等性能的涂层。总的来说,单靶磁控光纤绕丝溅射镀膜仪广泛应用于科研和工业领域中的薄膜制备
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