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揭秘半导体制造中常见的PVD磁控溅射工艺原理
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PVD磁控溅射镀膜工艺原理介绍。 磁控溅射的工作原理是指电子在电场的作用下,在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞,使其电离产生出Ar正离子和新的电子,Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶,轰击靶材表面,使靶材原子发生溅射沉积在基片上。
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