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揭秘半导体制造中常见的PVD磁控溅射工艺原理
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发明物理气相沉积(PVD)技术的真是个天才！！！ #科技创新 #工作原理 #科普一下 #趣味实验 #科技
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磁控溅射技术原理
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磁控溅射技术特点
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184｜PVD工艺介绍#芯片 #半导体
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磁控溅射介绍 Introduction_to_Sputter
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[搬] Applied Science 入门到放弃 介绍磁控溅射
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PVD多种沉积方式对比
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磁控溅射怎么约束离子走向基板
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溅射工艺原理
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真空PVD设备内部传动结构是什么样的?结构效果怎么样?
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磁控溅射操作视频
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磁控溅射沉积的介绍
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揭秘半导体设备：磁控溅射阴极靶的设计、加工、组装与测试
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Sputter 磁控溅射原理
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工艺指导——磁控溅射镀硅
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磁控溅射工作原理动画介绍
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磁控溅射操作视频
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物理气相淀积PVD方法介绍
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磁控溅射原理与特点
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PVD vs CVD 如何选择
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第三章表面微加工3-5 PVD溅射
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磁控溅射系统 物理气相沉积设备 国产利器
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【Magnetron Sputtering磁控溅射】铜、硅、银的薄层沉积
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【半导体工艺】——PVD（5min捋清楚物理气相淀积PVD的知识框架）
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单原子层精度磁控溅射系统搭建-合肥致真精密设备有限公司
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CMF设计之表面处理工艺——物理气相沉积工艺（也叫做真空电镀）（PVD）
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磁控管的工作原理
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【哈尔滨工业大学】微电子工艺 王蔚教授
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磁控溅射操作演示