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磁控溅射怎么约束离子走向基板
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磁控溅射中的磁场用于**约束电子的运动路径**,从而增加电子与气体分子的碰撞几率,提高等离子体密度,进而增加溅射率。 磁控溅射是一种常用的薄膜制备技术,它利用电场和磁场的相互作用来控制等离子体中的带电粒子,尤其是电子的运动。以下是磁控溅射中磁场约束离子走向基板的机制: 1. **磁场的引入**:在靶阴极表面引入一个磁场,这个磁场通常与电场方向垂直。 2. **电子运动路径**:电子在电场的作用下被加速,朝向基板运动。在这个过程中,磁场会对电子的运动产生洛伦兹力,使电子的运动路径成为螺旋形。
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