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电子束光刻的原理
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电子束光刻的主要原理是利用高速的电子打在光刻胶表面,使光刻胶的化学性质改变。在电子束光刻中电子的产生方式有两种,一种是热发射,另一种是场发射。热发射是通过对阴极材料高温加热,使电子获得足够的能量从阴极中逸出;场发射是将阴极置于高强度电场中,利用电场对电子的强作用力使电子脱离原子核的束缚。直写式电子束的曝光原理是将聚焦的电子束斑直接打在光刻胶的表面,加工中不需要成本高昂的掩模版和昂贵的投影光学系统,其加工方式也更为灵活,适合小批量器件的光刻,在实际中应用更为广泛。
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