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步进式曝光
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步进式曝光是指光刻机在进行光刻时,以一定的步距(step size)逐次曝光硅片上的不同区域,而非一次性曝光整个硅片。这种曝光方式常见于半导体制造中的步进重复投影光刻机(Stepper),尤其是适用于大规模集成电路(LSI)和超大规模集成电路(VLSI)的制造。 而UV曝光则是指使用紫外线作为曝光光源进行光刻的过程,这是大多数现代光刻机(包括步进式光刻机)采用的基本曝光原理。无论是步进式光刻还是扫描式光刻(如扫描式投影光刻机,Scanner),它们都可能使用UV光源进行曝光..
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