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MEMS光刻加工
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MEMS光刻加工是微机电系统(Microelectromechanical systems,MEMS)制造过程中的一种关键工艺步骤,它涉及到将制作在光刻掩模上的图形转移到衬底的表面上。光刻工艺的性能,如图形分辨率、套刻精度、光刻胶侧壁形貌、光刻胶缺陷和光刻胶抗刻蚀能力等,都会直接影响到后续工艺的成败。在MEMS制造过程中,光刻通常与薄膜淀积和刻蚀工艺结合使用,以制造复杂的三维微结构。
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